사업실적_연구개발

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반도체 공정 챔버 모니터링 System 개발

• 반도체 장비 진공 Chamber 내부 Monitoring
하나의 장치로 Wafer Alignment, 진동, leveling, 온/습도 동시 측정 가능
 Wafer 형태 측정 Module 에 Vision Sensor, 진동, 온/습도 Sensor 집적
외부 Controller PC와 실시간 무선 Data 통신 

유증기 처리 시스템 개발

• 전기 집진 및 활성탄을 이용한 고효율 집진 장치
누적된 유증기 오염 불질의 배출이 쉽고 및 장치의 유지 관리가 용이 

반도체 장비용 제습 시스템

• 공기 중의 수분이 wafer표면에 노출된 Thin film과 반응하여 Nano size defect을 생성
Nano size defect 억제를 위해 반도체 설비 EFEM 내부의 습도를 낮추어 공급하는 장비
특허출원 중

(주)써치앤델브

본사 : 경기도 화성시 반월길40번길 8 (반월동 323-8)

서울 사무소 : 서울특별시 영등포구 경인로775, 3동 403호
(문래동3가, 에이스하이테크시티)

미국 오피스 : 305 N. Heatherwilde Blvd, Suite #150 Pflugerville, TX, 78660

대표 TEL : 02-6376-6302 / FAX : 070-4710-191
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