사업실적_연구개발

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반도체 공정 챔버 모니터링 System 개발

• 반도체 장비 진공 Chamber 내부 Monitoring
• 하나의 장치로 Wafer Alignment, 진동, leveling, 온/습도 동시 측정 가능
• Wafer 형태 측정 Module 에 Vision Sensor, 진동, 온/습도 Sensor 집적
• 외부 Controller PC와 실시간 무선 Data 통신

유증기 처리 시스템 개발

• 전기 집진 및 활성탄을 이용한 고효율 집진 장치
• 누적된 유증기 오염 불질의 배출이 쉽고 및 장치의 유지 관리가 용이

반도체 장비용 제습 시스템

• 공기 중의 수분이 wafer표면에 노출된 Thin film과 반응하여 Nano size defect을 생성
• Nano size defect 억제를 위해 반도체 설비 EFEM 내부의 습도를 낮추어 공급하는 장비
• 특허출원 중

(주)써치앤델브

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